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ALOX型-高温湿式氧化炉
用途
1.III-V族半导体材料的湿气氧化
2.VCSEL 组件的湿气氧化
3.AlGaAs DBR LED组件的湿气氧化
特性
ALOX 型号高温湿氧炉
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高稳定性及高均匀性的水蒸气流量控制系统
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良好的温度均匀性
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自动可调式红外光监控系统
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实时监控氧化孔径大小,并自动停止制程
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反应炉建议气压:100~800mba
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适用wafer尺寸:2吋~6吋
规格
ALOX 型-
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自动化生产型
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wafer 尺寸: 2~6吋
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适用各种三五族半导体材料
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自动loading/ unloading 系统(选配)
关键字
III-V oxidation, wet oxidation, oxidation furnace, AET, VCSEL, 氧化爐, 濕氧爐, 濕氧製程, 面射型雷射, 三-五族半導體氧化