1. 濕式化學清洗(蝕刻)設備:部件清洗, 晶圓清洗(cassette type), 芯片製程之濕蝕刻(cassette type)

2. 中央化學溶液供給系統(CDS): 供應/回收酸、鹼、有機溶液

3. 干燥机: 将晶圆表面的水分去除

1.     湿式化学清洗(蚀刻)设备:

• 可客制化设计制作
• 使用进口材质及多处采用一体化无拼接设计，不易产生particle及漏液情况，低维修成本。
• 全自动式清洗(蚀刻)设备为cassette type，最大可到12”:

- Auto Robot传输为直线型槽对槽传输及直线

- Load/Unload进出货系统具备单批及连续式run货功能

- 须浸泡较长时间制程，可搭载晃动机构模块

- 可搭载晶圆旋干装置，干/湿进,干出

- 具备一套可客制化的Scheduler行程控制系统，可满足有许多制程步骤与复杂程序的生产线。

2.     中央化学溶液供给系统(CDS):

• 使用进口材质及多处采用一体化无拼接设计，不易产生液漏，低维修成本
• 可客制化订做

3.     晶圆干燥机:

• Spin type:利用离心力晶圆表面的水分去除。
• Maragoni IPA type:利用表面张力将晶圆表面的水分去除，槽体一体成型。
• IPA vapor type: 考虑环保节水需求的新选择，利用IPA将晶圆表面的水分去除，IPA加热器系独家设计并取得专利。

1. 湿式化学清洗(蚀刻)设备:依客户需求提供

2. 中央化学溶液供给系统(CDS): 依客户需求提供

3. 晶圆干燥机: 依客户需求提供