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ALOX型-高溫濕式氧化爐
用途
1.III-V族半導體材料的濕氣氧化
2.VCSEL 元件的濕氣氧化
3.AlGaAs DBR LED元件的濕氣氧化
特性
ALOX 型號高溫濕氧爐
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高穩定性及高均勻性的水蒸氣流量控制系統
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良好的溫度均勻性
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自動可調式紅外光監控系統
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即時監控氧化孔徑大小,並自動停止製程
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建議製程壓力:100~800mbar
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適用wafer尺寸:2吋~6吋
規格
ALOX 型-
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自動化生產型
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適用各種三五族半導體材料
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適用wafer 尺寸:2~6吋
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自動loading/unloading系統(選配)
關鍵字
III-V oxidation, wet oxidation, oxidation furnace, AET, VCSEL, 氧化爐, 濕氧爐, 濕氧製程, 面射型雷射, 三-五族半導體氧化